Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie

Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej - Nanotechnologia (S1)

Sylabus przedmiotu Prawo patentowe i wynalazcze:

Informacje podstawowe

Kierunek studiów Nanotechnologia
Forma studiów studia stacjonarne Poziom pierwszego stopnia
Tytuł zawodowy absolwenta inżynier
Obszary studiów nauki techniczne, studia inżynierskie
Profil ogólnoakademicki
Moduł
Przedmiot Prawo patentowe i wynalazcze
Specjalność przedmiot wspólny
Jednostka prowadząca Dział Wynalazczości i Ochrony Patentowej
Nauczyciel odpowiedzialny Marek Gryta <Marek.Gryta@zut.edu.pl>
Inni nauczyciele
ECTS (planowane) 1,0 ECTS (formy) 1,0
Forma zaliczenia zaliczenie Język polski
Blok obieralny 2 Grupa obieralna 2

Formy dydaktyczne

Forma dydaktycznaKODSemestrGodzinyECTSWagaZaliczenie
wykładyW6 15 1,01,00zaliczenie

Wymagania wstępne

KODWymaganie wstępne
W-1Brak wymagań wstępnych.

Cele przedmiotu

KODCel modułu/przedmiotu
C-1Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej.

Treści programowe z podziałem na formy zajęć

KODTreść programowaGodziny
wykłady
T-W-1Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności przemysłowej Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej (Konwencja paryska, TRIPS)2
T-W-2Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim,5
T-W-3Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony. Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego.2
T-W-4Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy. Porozumienie i Protokól madrycki. Oznaczenia gfeograficzne.3
T-W-5Informacja patentowa i badania patentowe.Bazy patentowe3
15

Obciążenie pracą studenta - formy aktywności

KODForma aktywnościGodziny
wykłady
A-W-1Uczestnictwo w zajęciach15
A-W-2Przygotowanie do zajęć - zapoznanie się z materiałami -4
A-W-3Poszukiwania w bazach patentowych - ćwiczenia w domu4
A-W-4przygotowanie do zaliczenia5
A-W-5Zaliczenie1
A-W-6konsultacje1
30

Metody nauczania / narzędzia dydaktyczne

KODMetoda nauczania / narzędzie dydaktyczne
M-1wykład połączony z prezentacją

Sposoby oceny

KODSposób oceny
S-1Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach
S-2Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć

Zamierzone efekty kształcenia - wiedza

Zamierzone efekty kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiówOdniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżynieraCel przedmiotuTreści programoweMetody nauczaniaSposób oceny
Nano_1A_A08a_W01
wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej.
Nano_1A_W15C-1T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-2M-1S-2, S-1

Zamierzone efekty kształcenia - umiejętności

Zamierzone efekty kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiówOdniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżynieraCel przedmiotuTreści programoweMetody nauczaniaSposób oceny
Nano_1A_A08a_U01
umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych;
C-1T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-2M-1S-2, S-1

Zamierzone efekty kształcenia - inne kompetencje społeczne i personalne

Zamierzone efekty kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiówOdniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształceniaOdniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżynieraCel przedmiotuTreści programoweMetody nauczaniaSposób oceny
Nano_1A_A08a_K01
student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej
Nano_1A_K06C-1T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-2M-1S-2, S-1

Kryterium oceny - wiedza

Efekt kształceniaOcenaKryterium oceny
Nano_1A_A08a_W01
wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej.
2,0opanowanie materiału na poziomie poniżej 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56% - 64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65%- 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75% - 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85%- 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95% - 100%

Kryterium oceny - umiejętności

Efekt kształceniaOcenaKryterium oceny
Nano_1A_A08a_U01
umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych;
2,0opanowanie materiału na poziomie 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56%- 64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65% - 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75% - 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85%- 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95%- 100%

Kryterium oceny - inne kompetencje społeczne i personalne

Efekt kształceniaOcenaKryterium oceny
Nano_1A_A08a_K01
student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej
2,0opanowanie materiału na poziomie 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56%-64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65% - 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75%- 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85% - 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95% - 100%

Literatura podstawowa

  1. Renata Zawadzka, Własność intelektualna , własność przemysłowa, Wydawnictwo Uczelniane Politechniki Szczecińskiej, Szczecin, 2008

Literatura dodatkowa

  1. ustawa, Ustawa z dnia 30 czerwca 2000 r. Prawo własności przemysłowej, Dz. U. z 2003 r. Nr 119 poz. 1117 z późn. zmianami, 2000
  2. ustawa, Ustawa z dnia 4 lutego 1994 r. o prawie autorskim i prawach pokrewnych, Dz. U.z 2000 r. Nr 80 poz. 904 z późn. zmianami, 1994
  3. pod redakcją Andrzeja Pyrży, Poradnik wynalazcy - Procedury zgłoszeniowe w systemie krajowym,europejskim, międzynaraodowym, Krajowa Izba Gospodarcza, Urząd Patentowy RP, Warszawa, 2009
  4. Michał du Vall, Prawo patentowe, Wolters Kluwer Polska Spólka zo.o., Warszawa, 2008

Treści programowe - wykłady

KODTreść programowaGodziny
T-W-1Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności przemysłowej Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej (Konwencja paryska, TRIPS)2
T-W-2Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim,5
T-W-3Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony. Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego.2
T-W-4Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy. Porozumienie i Protokól madrycki. Oznaczenia gfeograficzne.3
T-W-5Informacja patentowa i badania patentowe.Bazy patentowe3
15

Formy aktywności - wykłady

KODForma aktywnościGodziny
A-W-1Uczestnictwo w zajęciach15
A-W-2Przygotowanie do zajęć - zapoznanie się z materiałami -4
A-W-3Poszukiwania w bazach patentowych - ćwiczenia w domu4
A-W-4przygotowanie do zaliczenia5
A-W-5Zaliczenie1
A-W-6konsultacje1
30
(*) 1 punkt ECTS, odpowiada około 30 godzinom aktywności studenta
PoleKODZnaczenie kodu
Zamierzone efekty kształceniaNano_1A_A08a_W01wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej.
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiówNano_1A_W15ma podstawową wiedzę z zakresu ochrony własności intelektualnej, prawa autorskiego i prawa patentowego
Cel przedmiotuC-1Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej.
Treści programoweT-W-1Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności przemysłowej Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej (Konwencja paryska, TRIPS)
T-W-3Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony. Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego.
T-W-4Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy. Porozumienie i Protokól madrycki. Oznaczenia gfeograficzne.
T-W-5Informacja patentowa i badania patentowe.Bazy patentowe
T-W-2Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim,
Metody nauczaniaM-1wykład połączony z prezentacją
Sposób ocenyS-2Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć
S-1Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach
Kryteria ocenyOcenaKryterium oceny
2,0opanowanie materiału na poziomie poniżej 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56% - 64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65%- 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75% - 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85%- 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95% - 100%
PoleKODZnaczenie kodu
Zamierzone efekty kształceniaNano_1A_A08a_U01umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych;
Cel przedmiotuC-1Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej.
Treści programoweT-W-1Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności przemysłowej Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej (Konwencja paryska, TRIPS)
T-W-3Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony. Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego.
T-W-4Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy. Porozumienie i Protokól madrycki. Oznaczenia gfeograficzne.
T-W-5Informacja patentowa i badania patentowe.Bazy patentowe
T-W-2Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim,
Metody nauczaniaM-1wykład połączony z prezentacją
Sposób ocenyS-2Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć
S-1Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach
Kryteria ocenyOcenaKryterium oceny
2,0opanowanie materiału na poziomie 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56%- 64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65% - 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75% - 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85%- 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95%- 100%
PoleKODZnaczenie kodu
Zamierzone efekty kształceniaNano_1A_A08a_K01student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiówNano_1A_K06potrafi myśleć i działać w sposób przedsiębiorczy
Cel przedmiotuC-1Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej.
Treści programoweT-W-1Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności przemysłowej Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej (Konwencja paryska, TRIPS)
T-W-3Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony. Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego.
T-W-4Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy. Porozumienie i Protokól madrycki. Oznaczenia gfeograficzne.
T-W-5Informacja patentowa i badania patentowe.Bazy patentowe
T-W-2Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim,
Metody nauczaniaM-1wykład połączony z prezentacją
Sposób ocenyS-2Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć
S-1Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach
Kryteria ocenyOcenaKryterium oceny
2,0opanowanie materiału na poziomie 55%
3,0opanowanie materiału na poziomie 56%-64%
3,5opanowanie materiału na poziomie 65% - 74%
4,0opanowanie materiału na poziomie 75%- 84%
4,5opanowanie materiału na poziomie 85% - 94%
5,0opanowanie materiału na poziomie 95% - 100%