Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej - Nanotechnologia (S2)
Sylabus przedmiotu Ochrona własności intelektualnej:
Informacje podstawowe
| Kierunek studiów | Nanotechnologia | ||
|---|---|---|---|
| Forma studiów | studia stacjonarne | Poziom | drugiego stopnia |
| Tytuł zawodowy absolwenta | magister inżynier | ||
| Obszary studiów | nauk technicznych, studiów inżynierskich | ||
| Profil | ogólnoakademicki | ||
| Moduł | — | ||
| Przedmiot | Ochrona własności intelektualnej | ||
| Specjalność | przedmiot wspólny | ||
| Jednostka prowadząca | Dział Wynalazczości i Ochrony Patentowej | ||
| Nauczyciel odpowiedzialny | Renata Zawadzka <Renata.Zawadzka@zut.edu.pl> | ||
| Inni nauczyciele | |||
| ECTS (planowane) | 2,0 | ECTS (formy) | 2,0 |
| Forma zaliczenia | zaliczenie | Język | polski |
| Blok obieralny | — | Grupa obieralna | — |
Wymagania wstępne
| KOD | Wymaganie wstępne |
|---|---|
| W-1 | Podstawowe informacje z zakresu prawa własności przemysłowej - zaliczony kurs minimum 10 godzin |
Cele przedmiotu
| KOD | Cel modułu/przedmiotu |
|---|---|
| C-1 | Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej. |
Treści programowe z podziałem na formy zajęć
| KOD | Treść programowa | Godziny |
|---|---|---|
| wykłady | ||
| T-W-1 | Przypomnienie podstawowych informacji z zakresu prawa własności przemysłowej: Przedmioty ochrony własności przemysłowej. Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej i ochrony praw autorskich (Konwencja paryska, Konwencja berneńska, Konwencja o utworzeniu Światowej Organizacji Własności Intelektualnej, TRIPS) | 2 |
| T-W-2 | Wynalazki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Dokumentacja zgłoszeniowa. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim, | 6 |
| T-W-3 | Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony . Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy - postepowanie przed OHIM,. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego. | 3 |
| T-W-4 | Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy - postępowanie przed OHIM. Porozumienie i Protokól madrycki. Dokumentacja zgłoszeniowa znaku towarowego. | 4 |
| T-W-5 | Oznaczenia geograficzne - pwp, ochrona wynikająca z przepisów unijnych, zwalczanie nieuczciwej konkurencji | 2 |
| T-W-6 | Informacja patentowa i badania patentowe, bazy patentowe | 6 |
| T-W-7 | Przypomnienie podstawowych zagadnień prawa autorskiego - definicja utworu - przedmiot prawa, podmiot prawa , rodzaj praw i zakres ochrony | 4 |
| T-W-8 | Ustawa o zwalczaniu nieuczciwej konkurencji, czyny nieuczciwej konkurencji | 3 |
| 30 | ||
Obciążenie pracą studenta - formy aktywności
| KOD | Forma aktywności | Godziny |
|---|---|---|
| wykłady | ||
| A-W-1 | Uczestnictwo w zajęciach | 30 |
| A-W-2 | Przygotowanie do zajęć - zapoznanie się z materiałami - | 8 |
| A-W-3 | Poszukiwania w bazach patentowych - ćwiczenia w domu | 8 |
| A-W-4 | przygotowanie do zaliczenia | 8 |
| A-W-5 | Zaliczenie | 2 |
| A-W-6 | konsultacje | 4 |
| 60 | ||
Metody nauczania / narzędzia dydaktyczne
| KOD | Metoda nauczania / narzędzie dydaktyczne |
|---|---|
| M-1 | wykład połączony z prezentacją |
Sposoby oceny
| KOD | Sposób oceny |
|---|---|
| S-1 | Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach |
| S-2 | Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć |
Zamierzone efekty kształcenia - wiedza
| Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Nano_2A_A04_W01 wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej. | Nano_2A_W09 | T2A_W10 | InzA2_W03 | C-1 | T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-6, T-W-7, T-W-2 | M-1 | S-1, S-2 |
Zamierzone efekty kształcenia - umiejętności
| Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Nano_2A_A04_U01 umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych; | — | — | — | C-1 | T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-6, T-W-7, T-W-2 | M-1 | S-1, S-2 |
Zamierzone efekty kształcenia - inne kompetencje społeczne i personalne
| Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Nano_2A_A04_K01 student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej | — | — | — | C-1 | T-W-1, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-6, T-W-7, T-W-2 | M-1 | S-1, S-2 |
Kryterium oceny - wiedza
| Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
|---|---|---|
| Nano_2A_A04_W01 wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej. | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie poniżej 55% |
| 3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56% - 64% | |
| 3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65%- 74% | |
| 4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75% - 84% | |
| 4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85%- 94% | |
| 5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95% - 100% |
Kryterium oceny - umiejętności
| Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
|---|---|---|
| Nano_2A_A04_U01 umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych; | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie 55% |
| 3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56%- 64% | |
| 3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65% - 74% | |
| 4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75% - 84% | |
| 4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85%- 94% | |
| 5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95%- 100% |
Kryterium oceny - inne kompetencje społeczne i personalne
| Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
|---|---|---|
| Nano_2A_A04_K01 student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie 55% |
| 3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56%-64% | |
| 3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65% - 74% | |
| 4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75%- 84% | |
| 4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85% - 94% | |
| 5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95% - 100% |
Literatura podstawowa
- Renata Zawadzka, Własność intelektualna , własność przemysłowa, Wydawnictwo Uczelniane Politechniki Szczecińskiej, Szczecin, 2008
Literatura dodatkowa
- ustawa, Ustawa z dnia 30 czerwca 2000 r. Prawo własności przemysłowej, Dz. U. z 2003 r. Nr 119 poz. 1117 z późn. zmianami, 2000
- ustawa, Ustawa z dnia 4 lutego 1994 r. o prawie autorskim i prawach pokrewnych, Dz. U.z 2000 r. Nr 80 poz. 904 z późn. zmianami, 1994
- pod redakcją Andrzeja Pyrży, Poradnik wynalazcy - Procedury zgłoszeniowe w systemie krajowym,europejskim, międzynaraodowym, Krajowa Izba Gospodarcza, Urząd Patentowy RP, Warszawa, 2009
- Michał du Vall, Prawo patentowe, Wolters Kluwer Polska Spólka zo.o., Warszawa, 2008