Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej - Inżynieria Materiałów i Nanomateriałów (S1)
Sylabus przedmiotu Maszynoznawstwo i aparatura przemysłowa:
Informacje podstawowe
| Kierunek studiów | Inżynieria Materiałów i Nanomateriałów | ||
|---|---|---|---|
| Forma studiów | studia stacjonarne | Poziom | pierwszego stopnia |
| Tytuł zawodowy absolwenta | inżynier | ||
| Obszary studiów | charakterystyki PRK, kompetencje inżynierskie PRK | ||
| Profil | ogólnoakademicki | ||
| Moduł | — | ||
| Przedmiot | Maszynoznawstwo i aparatura przemysłowa | ||
| Specjalność | przedmiot wspólny | ||
| Jednostka prowadząca | Katedra Technologii Chemicznej Nieorganicznej i Inżynierii Środowiska | ||
| Nauczyciel odpowiedzialny | Marek Gryta <Marek.Gryta@zut.edu.pl> | ||
| Inni nauczyciele | |||
| ECTS (planowane) | 2,0 | ECTS (formy) | 2,0 |
| Forma zaliczenia | zaliczenie | Język | polski |
| Blok obieralny | — | Grupa obieralna | — |
Formy dydaktyczne
Wymagania wstępne
| KOD | Wymaganie wstępne |
|---|---|
| W-1 | podstawy rysunku technicznego |
| W-2 | podstawy procesów wymiany masy i ciepła (podstawy fizyki) |
Cele przedmiotu
| KOD | Cel modułu/przedmiotu |
|---|---|
| C-1 | Zaznajomienie studenta z budowa podstawowych aparatów stosowanych w przemyśle chemicznym i pokrewnych (np. spożywczym) |
| C-2 | przedstawienie możliwiowści aplikacyjnych aparatów stosowanych w technologii chemicznej |
| C-3 | Poznanie zasad pracy aparatów chemicznych |
Treści programowe z podziałem na formy zajęć
| KOD | Treść programowa | Godziny |
|---|---|---|
| laboratoria | ||
| T-L-1 | Praktyczne zapoznanie z typowymi elementami konstrukcyjnymi aparatów chemicznych | 3 |
| T-L-2 | Rodzaje połączeń stosowanych w budowie maszyn i aparatów | 3 |
| T-L-3 | Praktyczne zapoznanie z typowymi aparatami do realizacji procesów jednostkowych cz. 1 | 3 |
| T-L-4 | Praktyczne zapoznanie z typowymi aparatami do realizacji procesów jednostkowych cz. 2 | 3 |
| T-L-5 | Uruchomienie i demonstracja działania przykładowych instalacji | 3 |
| 15 | ||
| wykłady | ||
| T-W-1 | Wprowadzenie: znaczenie i wykorzystanie aparatury w technologii chemicznej. Właściwości materiałów konstrukcyjnych i zasady ich doboru do aparatów. | 2 |
| T-W-2 | Elementy maszyn i urządzeń: połączenia, napędy, rurociągi, armatura. Typowe elementy aparatów chemicznych. | 2 |
| T-W-3 | Pompy i sprężarki. Przenośniki. Urządzenia do rozdrabniania i przesiewania | 2 |
| T-W-4 | Mieszadła i mieszalniki. Aparaty do rozdzielania zawiesin. Odstojniki. Filtry. Aparaty membranowe. Cyklony. Wirówki. | 2 |
| T-W-5 | Wymienniki ciepła. Wyparki. Krystalizatory. | 2 |
| T-W-6 | Aparaty do destylacji i rektyfikacji. Absorbery. Adsorbery. | 2 |
| T-W-7 | Ekstraktory. Suszarki. Reaktory | 2 |
| T-W-8 | Kolokwium | 1 |
| 15 | ||
Obciążenie pracą studenta - formy aktywności
| KOD | Forma aktywności | Godziny |
|---|---|---|
| laboratoria | ||
| A-L-1 | uczestnictwo w zajęciach | 15 |
| A-L-2 | Zapoznanie z literaturą przedmiotu | 8 |
| A-L-3 | napisanie raportów-sprawozdań z zajęć | 5 |
| A-L-4 | Konsultacje | 2 |
| 30 | ||
| wykłady | ||
| A-W-1 | uczestnictwo w zajęciach | 15 |
| A-W-2 | zapoznanie się z literaturą przedmiotu | 8 |
| A-W-3 | Przygotowanie do kolokwium | 5 |
| A-W-4 | Konsultacje | 2 |
| 30 | ||
Metody nauczania / narzędzia dydaktyczne
| KOD | Metoda nauczania / narzędzie dydaktyczne |
|---|---|
| M-1 | wykład informacyjny |
| M-2 | Laboratorium - demonstracja budowy i pokazy obsługi |
Sposoby oceny
| KOD | Sposób oceny |
|---|---|
| S-1 | Ocena formująca: sprawdzian z zakrsu tematyki laboratorium |
| S-2 | Ocena podsumowująca: Kolokwium - test wyboru z zagadnień przedstawianych na wykładzie |
Zamierzone efekty uczenia się - wiedza
| Zamierzone efekty uczenia się | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów uczenia się prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| IMiN_1A_C18_W01 Absolwent zna i rozumie zasady funkcjonowania i eksploatacji systemów, aparatury i urządzeń technologicznych z oprzyrządowaniem szczególnie w kontekście wytwarzania materiałów i nanomateriałów | IMiN_1A_W07 | — | — | C-1, C-3, C-2 | T-W-1, T-W-5, T-W-4, T-W-6, T-W-2, T-W-3, T-W-7, T-W-8 | M-1 | S-1, S-2 |
Zamierzone efekty uczenia się - umiejętności
| Zamierzone efekty uczenia się | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów uczenia się prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| IMiN_1A_C18_U01 Absolwent potrafi zaplanować i zrealizować procesy wytwarzania wybranych materiałów i nanomateriałów | IMiN_1A_U08 | — | — | C-1, C-2 | T-L-2, T-L-5, T-L-3, T-L-1, T-L-4 | M-2 | S-1 |
Kryterium oceny - wiedza
| Efekt uczenia się | Ocena | Kryterium oceny |
|---|---|---|
| IMiN_1A_C18_W01 Absolwent zna i rozumie zasady funkcjonowania i eksploatacji systemów, aparatury i urządzeń technologicznych z oprzyrządowaniem szczególnie w kontekście wytwarzania materiałów i nanomateriałów | 2,0 | |
| 3,0 | zna budowę i działanie przykładowych aparatów z danej grupy urządzeń | |
| 3,5 | ||
| 4,0 | ||
| 4,5 | ||
| 5,0 |
Kryterium oceny - umiejętności
| Efekt uczenia się | Ocena | Kryterium oceny |
|---|---|---|
| IMiN_1A_C18_U01 Absolwent potrafi zaplanować i zrealizować procesy wytwarzania wybranych materiałów i nanomateriałów | 2,0 | |
| 3,0 | Potrafi analizować i wybrać aparaty stosownie do wymagań danej technologii | |
| 3,5 | ||
| 4,0 | ||
| 4,5 | ||
| 5,0 |
Literatura podstawowa
- J. Pikoń, Aparatura chemiczna, PWN, Warszawa, 1983
- H. Błasiński, B. Modziński, Aparatura przemysłu chemicznego, WNT, Warszawa, 1983
- M. Gryta, R. Kaleńczuk, D. Moszyński, Grafika inżynierska, Wydawnictwo Uczelniane PS, Szczecin, 2007
- K.F. Pawłow, P.G. Romankow, A.A. Noskow, Przykłady i zadania z zakresu aparatury i inżynierii chemicznej, WNT, Warszawa, 1981
- J. Pikoń, Podstawy konstrukcji aparatury chemicznej, PWN, Warszawa, 1979
Literatura dodatkowa
- T. Hobler, Ruch ciepła i wymienniki, WNT, Warszawa, 1986
- T. Dobrzański, Rysunek techniczny maszynowy, WNT, Warszawa, 2004
- W. Aleksandrowicz Żużikow, Filtracja, teoria i praktyka rozdzielania zawiesin, WNT, Warszawa, 1995
- R. Zarzycki, A. Chaculi, M. Starzak, Absorpcja i absorbery, WNT, Warszawa, 1995
- R. Koch, A. Kozioł, Dyfuzyjno-cieplny rozdział substancji, WNT, Warszawa, 1994